相对尺寸不变，如何只修改内孔尺寸？

jamscz

有点意思，参数化修改内孔尺寸

缩小

jamscz

增大

w2e4lite

jamscz 发表于 2021-8-18 22:25
增大

jamscz您好：为什么我按照你的步骤做，编辑横截面后，面上的小孔就丢失了？如图：

jamscz

w2e4lite 发表于 2021-8-20 09:26
jamscz您好：为什么我按照你的步骤做，编辑横截面后，面上的小孔就丢失了？如图：

编辑横截面草图尽量按照设计意图使其完全定义

w2e4lite

jamscz 发表于 2021-8-20 10:12
编辑横截面草图尽量按照设计意图使其完全定义

草图完全定义了，但是回滚编辑看出草图的孔位置其实已经移动，预览后还是那些小孔没有生成。

jamscz

w2e4lite 发表于 2021-8-20 11:07
草图完全定义了，但是回滚编辑看出草图的孔位置其实已经移动，预览后还是那些小孔没有生成。

prt贴上来看看（版本）

whinnyjia

w2e4lite 发表于 2021-8-20 11:07
草图完全定义了，但是回滚编辑看出草图的孔位置其实已经移动，预览后还是那些小孔没有生成。

截面上附带较多孔时不建议用“编辑横截面”命令。象本文档，你只需要两面的孔各删除3个，然后对余下的孔进行线性尺寸定位，再进行圆形阵列，最后修改公式进行关联即可。

w2e4lite

whinnyjia 发表于 2021-8-20 12:54
截面上附带较多孔时不建议用“编辑横截面”命令。象本文档，你只需要两面的孔各删除3个，然后对余下的孔 ...

如图，在高亮面上插入一个实体，（实体之后需要圆形阵列排布），当高亮面增大或缩小时，如何使阵列实体也能随着面一起变化？

jamscz

w2e4lite 发表于 2021-8-24 17:24
如图，在高亮面上插入一个实体，（实体之后需要圆形阵列排布），当高亮面增大或缩小时，如何使阵列实体也 ...

调整阵列--删除面--编辑横截面--拉动面--阵列面

w2e4lite

jamscz 发表于 2021-8-25 15:23
调整阵列--删除面--编辑横截面--拉动面--阵列面

jamscz:您好，不是很理解，现把图档附上，帮忙用NX1973或更低版本NX修改下发给我，谢谢